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2009.11.20

【満員御礼】2009年度 第3回「マシンビジョン画像処理システムのための新しいライティング技術」セミナー開催のご報告(2009年11月19日~11月20日)

2009年度 第3回「マシンビジョン画像処理システムのための新しいライティング技術」開催
(高度ポリテクセンターコース番号:22110-3)

このセミナーは定員に達したため、募集を締め切っております。
多数のご応募誠にありがとうございました。


2009年11月19日(木)~20日(金)の両日にわたり、千葉県の高度ポリテクセンターにおいて、当社主幹技師 増村茂樹による2回目のライティングセミナーを開催いたします。
本セミナーでは、画像処理システムの設計、または生産技術・検査技術に携わる方を対象として、LED照明を用いてのライティング技術の解説を詳細にわたって行います。

■セミナー詳細

詳細
開催予定日
開催場所
セミナー内容
申込方法
:2009年11月19日(木)~20日(金)
:9:30~17:15
:高度ポリテクセンター
:詳しい内容は こちら から
:詳しいお申し込み方法は こちら から
■セミナー内容(予定)
項目細目時間
照明のパラダイムシフト・マシンビジョンによるFA化
・人間の視覚(Human Vision)と
 機械の視覚(Machine Vision)
・マシンビジョンにおける照明の役割と機能
1時間
物体認識の基礎とライティング・光の性質と物体認識のメカニズム
・ライティングシステムの設計パラメータ
・色の本質と濃淡抽出
・光の感度特性と明るさの考え方
・各デモ実験と実験演習
2時間
照明法の基礎・直接光と散乱光の特性
・直接光の分散と照射立体角
・直接光照明法と散乱光照明法
・明視野と暗視野での撮像例
・各デモ実験と実験演習
2時間
S/Nの最適化・最適化パラメーターの考え方
・平行光と拡散光
・LED照明の適合性について
・平行度の違いによる撮像例
・各デモ実験と実験演習
2時間
偏光による情報抽出・偏光の考え方と波の式表現
・偏光による旋光特性の濃淡化
・偏光による直接光と散乱光の分離
・各デモ実験と実験演習
2時間
反射率・散乱率の最適化・照射光の波長による散乱率の最適化
・金属の分光反射特性とその最適化
・各デモ実験
1時間
ライティングシステムの設計・LED照明の特徴
・ライティングシステムの設計要件
1時間
最近の動向・高輝度パワーLED照明の利用
・超高輝度マイクロファイバ照明について
・放熱技術と照射光の安定性について
1時間
■セミナーに関してご不明な点は、下記にお問い合わせください
高度ポリテクセンター(事業課)
TEL:043(296)2582 FAX:043(296)2585
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